Пластина з діоксиду кремнію SiO2 товста пластина, полірована, первинна та тестова

Пластини оксиду кремнію — це плівки діоксиду кремнію, вирощені на поверхні кремнієвих пластин за допомогою кисню або водяної пари при високих температурах (800°C~1150°C) за допомогою процесу термічного окислення за допомогою трубчастої печі під атмосферним тиском.Товщина процесу коливається від 50 нанометрів до 2 мікрон, температура процесу становить до 1100 градусів Цельсія, метод вирощування поділяється на два види "вологого кисню" та "сухого кисню".Термічний оксид — це «вирощений» оксидний шар, який має вищу однорідність, кращу щільність і вищу діелектричну міцність, ніж шари оксиду, нанесені CVD, що забезпечує вищу якість.

Окислення сухим киснем

Кремній реагує з киснем, і шар оксиду постійно рухається до шару підкладки.Сухе окислення необхідно проводити при температурах від 850 до 1200 °C з нижчою швидкістю росту, і його можна використовувати для росту МОП-ізольованих затворів.Сухе окислення є кращим перед мокрим, коли потрібен високоякісний ультратонкий шар оксиду кремнію.Ємність сухого окислення: 15 нм ~ 300 нм.

2. Мокре окислення

Цей метод використовує водяну пару для утворення оксидного шару шляхом надходження в трубу печі в умовах високої температури.Ущільнення вологого кисневого окислення трохи гірше, ніж сухого кисневого окислення, але порівняно з сухим кисневим окисленням його перевага полягає в тому, що він має вищу швидкість росту, придатну для росту плівки більше ніж 500 нм.Здатність до мокрого окислення: 500 нм ~ 2 мкм.

Труба для окислювальної печі AEMD за атмосферного тиску — це чеська горизонтальна пічна труба, яка характеризується високою стабільністю процесу, хорошою однорідністю плівки та чудовим контролем частинок.Труба печі з оксиду кремнію може обробляти до 50 пластин на трубу з чудовою однорідністю всередині та між пластинами.