2 дюйма 50,8 мм сапфірова пластина C-площина M-площина R-площина A-площина Товщина 350 мкм 430 мкм 500 мкм

2 дюйма 50,8 мм сапфірова пластина C-площина M-площина R-площина A-площина Товщина 350 мкм 430 мкм 500 мкм Рекомендоване зображення

Короткий опис:

Сапфір — це матеріал з унікальним поєднанням фізичних, хімічних і оптичних властивостей, які роблять його стійким до високих температур, термічного удару, водної та піщаної ерозії та подряпин.

Надішліть нам електронний лист

Деталі продукту

Теги товарів

Специфікація різних орієнтацій

Орієнтація	Вісь C(0001).		R(1-102)-Осі		M(10-10) -Осі	A(11-20)-Вісь
Фізична власність	Вісь C має кристалічне світло, а інші осі мають негативне світло.Площина C плоска, бажано розрізана.		R-площина трохи складніша за A.		Площина М ступінчаста зубчаста, не легко ріжеться, легко ріжеться.	Твердість А-площини значно вища, ніж С-площини, що проявляється в зносостійкості, стійкості до подряпин і високій твердості;Бічна А-площина - це зигзагоподібна площина, яку легко різати;
Додатки	С-орієнтовані сапфірові підкладки використовуються для вирощування нанесених плівок III-V і II-VI, таких як нітрид галію, які можуть виробляти сині світлодіоди, лазерні діоди та інфрачервоні детектори. Це головним чином тому, що процес росту кристалів сапфіру вздовж осі C є зрілим, вартість відносно низька, фізичні та хімічні властивості стабільні, а технологія епітаксії на площині C є зрілою та стабільною.		R-орієнтоване зростання підкладки різних нанесених кремнієвих екстрасисталів, що використовуються в інтегральних схемах мікроелектроніки. Крім того, високошвидкісні інтегральні схеми та датчики тиску також можуть бути сформовані в процесі виробництва плівки епітаксіального росту кремнію.Підкладку R-типу також можна використовувати у виробництві свинцю, інших надпровідних компонентів, високоомних резисторів, арсеніду галію.		Він в основному використовується для вирощування неполярних/напівполярних епітаксійних плівок GaN для покращення світлової ефективності.	А-орієнтована на підкладку створює рівномірну діелектричну проникність/середовище, а високий ступінь ізоляції використовується в технологіях гібридної мікроелектроніки.Високотемпературні надпровідники можна виготовити з витягнутих кристалів на основі А.
Переробна потужність	Сапфірова підкладка з візерунком (PSS): у формі вирощування або травлення на сапфіровій підкладці розроблені та створені нанорозмірні регулярні візерунки мікроструктури для контролю форми світлового виходу світлодіода та зменшення диференціальних дефектів серед GaN, що росте на сапфіровій підкладці. , покращити якість епітаксії, підвищити внутрішню квантову ефективність світлодіода та підвищити ефективність вилучення світла. Крім того, сапфірову призму, дзеркало, лінзу, отвір, конус та інші структурні частини можна налаштувати відповідно до вимог замовника.
Декларація про майно	Щільність	Твердість	температура плавлення	Показник заломлення (видимого та інфрачервоного)	Коефіцієнт пропускання (DSP)	Діелектрична проникність
Декларація про майно	3,98 г/см3	9 (моос)	2053 ℃	1,762~1,770	≥85%	11,58 при 300K по осі C (9,4 по осі A)

Детальна схема

avcasvb (1)

avcasvb (2)

avcasvb (3)

Попередній: 8-дюймова пластина з ніобату літію LiNbO3 LN

далі: 2 дюйма 50,8 мм Товщина 0,1 мм 0,2 мм 0,43 мм Сапфірова пластина C-площина M-площина R-площина A-площина

Напишіть своє повідомлення тут і надішліть його нам

Категорії товарів