Тришарова пластина SOI на основі кремнію на ізоляторі для мікроелектроніки та радіочастот

Короткий опис:

SOI повна назва Silicon On Insulator, це значення структури кремнієвого транзистора на верхній частині ізолятора, принцип між кремнієвим транзистором, додавання ізоляторного матеріалу, може зробити паразитну ємність між двома, ніж оригінал, менш ніж удвічі.

Надішліть нам електронний лист

Деталі продукту

Теги товарів

Представлення вафельної коробки

Представляємо нашу передову пластину з кремнієм на ізоляторі (SOI), ретельно розроблену з трьома різними шарами, яка революціонізує мікроелектроніку та радіочастотні (РЧ) програми. Ця інноваційна підкладка поєднує верхній кремнієвий шар, ізоляційний оксидний шар і нижню кремнієву підкладку для забезпечення неперевершеної продуктивності та універсальності.

Розроблена відповідно до вимог сучасної мікроелектроніки, наша пластина SOI забезпечує міцну основу для виготовлення складних інтегральних схем (ІС) із надзвичайною швидкістю, енергоефективністю та надійністю. Верхній кремнієвий шар забезпечує безперебійну інтеграцію складних електронних компонентів, а ізоляційний оксидний шар мінімізує паразитну ємність, підвищуючи загальну продуктивність пристрою.

У сфері радіочастотних додатків наша пластина SOI виділяється своєю низькою паразитною ємністю, високою напругою пробою та чудовими ізоляційними властивостями. Ідеально підходить для радіочастотних комутаторів, підсилювачів, фільтрів та інших радіочастотних компонентів, ця підкладка забезпечує оптимальну продуктивність у системах бездротового зв’язку, радарних системах тощо.

Крім того, притаманна радіаційна стійкість нашої пластини SOI робить її ідеальною для аерокосмічних і оборонних застосувань, де надійність у суворих умовах є критичною. Його міцна конструкція та виняткові робочі характеристики гарантують стабільну роботу навіть у екстремальних умовах.

Основні характеристики:

Тришарова архітектура: верхній кремнієвий шар, ізоляційний оксидний шар і нижня кремнієва підкладка.

Висока продуктивність мікроелектроніки: дозволяє виготовляти вдосконалені мікросхеми з підвищеною швидкістю та енергоефективністю.

Відмінні радіочастотні характеристики: низька паразитна ємність, висока пробивна напруга та чудові властивості ізоляції для радіочастотних пристроїв.

Надійність аерокосмічного класу: Внутрішня радіаційна стійкість забезпечує надійність у суворих умовах.

Універсальне застосування: підходить для широкого спектру галузей промисловості, включаючи телекомунікації, аерокосмічну, оборонну тощо.

Відчуйте нове покоління мікроелектроніки та радіочастотних технологій із нашою вдосконаленою пластиною з кремнієм на ізоляторі (SOI). Відкрийте нові можливості для інновацій і сприяйте прогресу у своїх програмах за допомогою нашого передового рішення для підкладки.