Прецизійна мікроструминна лазерна система для твердих та крихких матеріалів
Основні характеристики
1. Двохвильове лазерне джерело Nd:YAG
Використовуючи твердотільний Nd:YAG-лазер з діодним накачуванням, система підтримує як зелений (532 нм), так і інфрачервоний (1064 нм) діапазони довжин хвиль. Ця дводіапазонна здатність забезпечує чудову сумісність з широким спектром профілів поглинання матеріалів, покращуючи швидкість та якість обробки.
2. Інноваційна мікроструминна лазерна передача
Поєднуючи лазер з мікроструменем води високого тиску, ця система використовує повне внутрішнє відбиття для точного спрямування лазерної енергії вздовж потоку води. Цей унікальний механізм подачі забезпечує надточне фокусування з мінімальним розсіюванням і створює лінії шириною до 20 мкм, забезпечуючи неперевершену якість різу.
3. Термічний контроль у мікромасштабі
Вбудований модуль прецизійного водяного охолодження регулює температуру в точці обробки, підтримуючи зону термічного впливу (ЗТВ) у межах 5 мкм. Ця функція особливо цінна під час роботи з термочутливими та схильними до руйнування матеріалами, такими як SiC або GaN.
4. Модульна конфігурація живлення
Платформа підтримує три варіанти потужності лазера — 50 Вт, 100 Вт та 200 Вт, що дозволяє клієнтам вибрати конфігурацію, яка відповідає їхнім вимогам щодо пропускної здатності та роздільної здатності.
5. Платформа точного керування рухом
Система включає високоточну робочу платформу з позиціонуванням ±5 мкм, 5-осьовим рухом та додатковими лінійними або прямими двигунами. Це забезпечує високу повторюваність та гнучкість, навіть для складних геометрій або пакетної обробки.
Галузі застосування
Обробка пластин з карбіду кремнію:
Ідеально підходить для обрізання країв, нарізання та нарізання SiC-пластин у силовій електроніці.
Обробка підкладки з нітриду галію (GaN):
Підтримує високоточне розмічування та різання, адаптовано для радіочастотних та світлодіодних застосувань.
Структурування напівпровідників із широкою забороненою зоною:
Сумісний з алмазом, оксидом галію та іншими новими матеріалами для високочастотних та високовольтних застосувань.
Різання аерокосмічних композитів:
Точне різання керамоматричних композитів та передових аерокосмічних підкладок.
LTCC та фотоелектричні матеріали:
Використовується для свердління мікроперехідних отворів, траншей та надрізання у виробництві високочастотних друкованих плат та сонячних елементів.
Сцинтилятор та оптичне формування кристалів:
Забезпечує низькодефектне різання ітрій-алюмінієвого граната, LSO, BGO та інших прецизійних оптичних матеріалів.
Специфікація
Специфікація | Значення |
Тип лазера | DPSS Nd:YAG |
Підтримувані довжини хвиль | 532 нм / 1064 нм |
Параметри живлення | 50 Вт / 100 Вт / 200 Вт |
Точність позиціонування | ±5 мкм |
Мінімальна ширина лінії | ≤20 мкм |
Зона впливу тепла | ≤5 мкм |
Система руху | Лінійний / прямий привідний двигун |
Максимальна щільність енергії | До 10⁷ Вт/см² |
Висновок
Ця мікроструминна лазерна система переосмислює межі лазерної обробки твердих, крихких та термочутливих матеріалів. Завдяки унікальній інтеграції лазера та води, сумісності з двома довжинами хвиль та гнучкій системі руху, вона пропонує індивідуальне рішення для дослідників, виробників та системних інтеграторів, які працюють з передовими матеріалами. Незалежно від того, чи використовується вона на заводах напівпровідників, в аерокосмічних лабораторіях чи виробництві сонячних панелей, ця платформа забезпечує надійність, повторюваність та точність, що сприяють обробці матеріалів наступного покоління.
Детальна діаграма


