8-дюймовий 200-мм сапфіровий пластинчастий носій Субстрат 1SP 2SP 0,5 мм 0,75 мм
Спосіб виготовлення
Процес виготовлення 8-дюймової сапфірової підкладки складається з кількох етапів. Спочатку порошок глинозему високої чистоти розплавляють при високій температурі для утворення розплавленого стану. Потім затравковий кристал занурюють у розплав, дозволяючи сапфіру рости, коли затравка повільно витягується. Після достатнього зростання сапфірове скло акуратно нарізають на тонкі пластини, які потім полірують для отримання гладкої та бездоганної поверхні.
Застосування 8-дюймової сапфірової підкладки: 8-дюймова сапфірова підкладка широко використовується в напівпровідниковій промисловості, зокрема у виробництві електронних пристроїв і оптоелектронних компонентів. Він служить важливою основою для епітаксійного росту напівпровідників, уможливлюючи формування високопродуктивних інтегральних схем, світлодіодів (LED) і лазерних діодів. Сапфірова підкладка також знаходить застосування у виробництві оптичних вікон, циферблатів і захисних чохлів для смартфонів і планшетів.
Технічні характеристики 8-дюймової сапфірової підкладки
- Розмір: 8-дюймова сапфірова підкладка має діаметр 200 мм, що забезпечує більшу площу поверхні для нанесення епітаксійних шарів.
- Якість поверхні: поверхня підкладки ретельно відполірована для досягнення високої оптичної якості з шорсткістю поверхні менше 0,5 нм RMS.
- Товщина: стандартна товщина підкладки 0,5 мм. Однак за запитом доступні варіанти індивідуальної товщини.
- Упаковка: сапфірові підкладки упаковані окремо для забезпечення захисту під час транспортування та зберігання. Зазвичай їх поміщають у спеціальні лотки чи ящики з відповідними прокладками, щоб запобігти будь-якому пошкодженню.
- Орієнтація країв: підкладка має певну орієнтацію країв, що є вирішальним для точного вирівнювання під час виробничих процесів напівпровідників.
Підсумовуючи, 8-дюймова сапфірова підкладка є універсальним і надійним матеріалом, який широко використовується в напівпровідниковій промисловості завдяки своїм винятковим тепловим, хімічним і оптичним властивостям. Завдяки чудовій якості поверхні та точним специфікаціям він є важливим компонентом у виробництві високопродуктивних електронних та оптоелектронних пристроїв.