12-дюймова сапфірова пластина для великосерійного виробництва напівпровідників

Короткий опис:

12-дюймова сапфірова пластина розроблена для задоволення зростаючого попиту на виробництво напівпровідників та оптоелектроніки великої площі з високою продуктивністю. Оскільки архітектури пристроїв продовжують масштабуватися, а виробничі лінії переходять до більших форматів пластин, сапфірові підкладки з надвеликим діаметром пропонують явні переваги в продуктивності, оптимізації виходу та контролі витрат.

Надіслати нам електронного листа

Особливості

Детальна діаграма

Впровадження 12-дюймової сапфірової пластини

Виготовлені з високочистого монокристалічного Al₂O₃, наші 12-дюймові сапфірові пластини поєднують у собі чудову механічну міцність, термостабільність та якість поверхні. Завдяки оптимізованому росту кристалів та точній обробці пластин, ці підкладки забезпечують надійну роботу для передових світлодіодів, GaN та спеціальних напівпровідникових застосувань.

Характеристики матеріалу

Сапфір (монокристалічний оксид алюмінію, Al₂O₃) добре відомий своїми видатними фізичними та хімічними властивостями. 12-дюймові сапфірові пластини успадковують усі переваги сапфірового матеріалу, забезпечуючи при цьому значно більшу корисну площу поверхні.

Ключові характеристики матеріалу включають:

Надзвичайно висока твердість та зносостійкість
Відмінна термічна стабільність та висока температура плавлення
Чудова хімічна стійкість до кислот і лугів
Висока оптична прозорість від ультрафіолетового до інфрачервоного діапазону
Відмінні електроізоляційні властивості

Ці характеристики роблять 12-дюймові сапфірові пластини придатними для використання в суворих умовах обробки та високотемпературних процесах виробництва напівпровідників.

Виробничий процес

Виробництво 12-дюймових сапфірових пластин вимагає передових технологій вирощування кристалів та надточної обробки. Типовий виробничий процес включає:

Вирощування монокристалів
Кристали сапфіру високої чистоти вирощуються за допомогою передових методів, таких як KY або інші технології вирощування кристалів великого діаметра, що забезпечує рівномірну орієнтацію кристалів та низькі внутрішні напруження.
Формування та розрізання кристалів
Сапфіровий злиток точно формується та нарізається на 12-дюймові пластини за допомогою високоточного різального обладнання, щоб мінімізувати пошкодження підповерхневих шарів.
Шліфування та полірування
Для досягнення чудової шорсткості поверхні, площинності та однорідності товщини застосовуються багатоетапні процеси притирання та хіміко-механічного полірування (ХМП).
Очищення та огляд
Кожна 12-дюймова сапфірова пластина проходить ретельне очищення та сувору перевірку, включаючи аналіз якості поверхні, TTV, вигину, деформації та дефектів.

Застосування

12-дюймові сапфірові пластини широко використовуються в передових та нових технологіях, зокрема:

Підкладки для світлодіодів високої потужності та високої яскравості
Силові пристрої та радіочастотні пристрої на основі GaN
Носій напівпровідникового обладнання та ізоляційні підкладки
Оптичні вікна та оптичні компоненти великої площі
Удосконалена упаковка напівпровідників та спеціальні носії процесу

Великий діаметр забезпечує вищу пропускну здатність та підвищену економічну ефективність у масовому виробництві.

Переваги 12-дюймових сапфірових пластин

Більша корисна площа для більшої потужності пристрою на пластину
Покращена узгодженість та однорідність процесу
Зниження вартості одного пристрою при великосерійному виробництві
Відмінна механічна міцність для обробки великогабаритних матеріалів
Налаштовувані специфікації для різних застосувань

Параметри налаштування

Ми пропонуємо гнучкі можливості налаштування 12-дюймових сапфірових пластин, включаючи:

Орієнтація кристалів (площина C, площина A, площина R тощо)
Допуск товщини та діаметра
Одностороннє або двостороннє полірування
Профіль кромки та дизайн фаски
Вимоги до шорсткості та площинності поверхні

Параметр	Специфікація	Нотатки
Діаметр пластини	12 дюймів (300 мм)	Стандартна пластина великого діаметра
Матеріал	Монокристалічний сапфір (Al₂O₃)	Висока чистота, електронний/оптичний клас
Орієнтація кристалів	Площина C (0001), площина A (11-20), площина R (1-102)	Доступні додаткові орієнтації
Товщина	430–500 мкм	Індивідуальна товщина доступна за запитом
Допуск товщини	±10 мкм	Жорстка толерантність для передових пристроїв
Загальна варіація товщини (TTV)	≤10 мкм	Забезпечує рівномірну обробку по всій пластині
Лук	≤50 мкм	Вимірюється по всій пластині
Деформація	≤50 мкм	Вимірюється по всій пластині
Оздоблення поверхні	Одностороннє полірування (SSP) / Двостороннє полірування (DSP)	Висока оптична якість поверхні
Шорсткість поверхні (Ra)	≤0,5 нм (полірований)	Атомна гладкість для епітаксіального росту
Профіль краю	Фаска / Заокруглений край	Щоб запобігти відколам під час обробки
Точність орієнтації	±0,5°	Забезпечує належний ріст епітаксіального шару
Щільність дефектів	<10 см⁻²	Вимірюється оптичним контролем
Плоскість	≤2 мкм / 100 мм	Забезпечує рівномірну літографію та епітаксіальне зростання
Чистота	Клас 100 – Клас 1000	Сумісний з чистими приміщеннями
Оптична передача	>85% (УФ-ІЧ)	Залежить від довжини хвилі та товщини

12-дюймові сапфірові пластини – поширені запитання

Q1: Яка стандартна товщина 12-дюймової сапфірової пластини?
A: Стандартна товщина коливається від 430 мкм до 500 мкм. Також може бути виготовлена нестандартна товщина відповідно до вимог замовника.

Q2: Які орієнтації кристалів доступні для 12-дюймових сапфірових пластин?
В: Ми пропонуємо орієнтації C-площини (0001), A-площини (11-20) та R-площини (1-102). Інші орієнтації можна налаштувати залежно від конкретних вимог пристрою.

Q3: Яка загальна варіація товщини (TTV) пластини?
A: Наші 12-дюймові сапфірові пластини зазвичай мають TTV ≤10 мкм, що забезпечує однорідність по всій поверхні пластини для високоякісного виготовлення пристроїв.

Про нас

Компанія XKH спеціалізується на високотехнологічній розробці, виробництві та продажу спеціального оптичного скла та нових кристалічних матеріалів. Наша продукція обслуговує оптичну електроніку, побутову електроніку та військове обладнання. Ми пропонуємо сапфірові оптичні компоненти, кришки для об'єктивів мобільних телефонів, кераміку, LT, карбід кремнію SIC, кварц та напівпровідникові кристалічні пластини. Завдяки кваліфікованому досвіду та передовому обладнанню ми досягаємо успіху в обробці нестандартної продукції, прагнучи стати провідним високотехнологічним підприємством у сфері оптоелектронних матеріалів.