ПеревагиЧерез скло (TGV)Процеси TGV і Through Silicon Via (TSV) в основному:
(1) відмінні високочастотні електричні характеристики. Скляний матеріал є ізоляційним матеріалом, діелектрична проникність становить лише близько 1/3 від кремнієвого матеріалу, а коефіцієнт втрат на 2-3 порядки нижчий, ніж у кремнієвого матеріалу, що значно зменшує втрати підкладки та паразитні ефекти і забезпечує цілісність переданого сигналу;
(2)великий розмір і надтонка скляна підкладкалегко отримати. Corning, Asahi і SCHOTT та інші виробники скла можуть надати панельне скло надвеликого розміру (>2 м × 2 м) і ультратонкого (<50 мкм) і ультратонкі гнучкі скляні матеріали.
3) Низька вартість. Скористайтеся перевагами легкого доступу до надтонкого скляної панелі великого розміру та не потребуйте нанесення ізоляційних шарів, вартість виробництва скляної адаптерної пластини становить лише близько 1/8 від кремнієвої адаптерної пластини;
4) Простий процес. Немає необхідності наносити ізоляційний шар на поверхню підкладки та внутрішню стінку TGV, а також не потрібне стоншення ультратонкої адаптерної пластини;
(5) Сильна механічна стабільність. Навіть коли товщина адаптерної пластини менше 100 мкм, викривлення все одно невелике;
(6) Широкий діапазон застосувань, це нова технологія поздовжнього з’єднання, що застосовується в області упаковки на рівні пластини, для досягнення найкоротшої відстані між пластиною та пластиною, мінімальний крок з’єднання забезпечує новий технологічний шлях із чудовою електричною , термічні, механічні властивості, у радіочастотному чіпі, високоякісних датчиках MEMS, системній інтеграції високої щільності та інших сферах з унікальними перевагами, це наступне покоління високочастотних чіпів 5G, 6G 3D. Це один із перших варіантів для 3D-упаковка високочастотних чіпів нового покоління 5G і 6G.
Процес формування TGV в основному включає піскоструминну обробку, ультразвукове свердління, вологе травлення, глибоке реактивне іонне травлення, фоточутливе травлення, лазерне травлення, індуковане лазером глибинне травлення та формування фокусуючого розрядного отвору.
Результати останніх досліджень і розробок показують, що технологія може підготувати наскрізні отвори та глухі отвори 5:1 із співвідношенням глибини до ширини 20:1 і мати гарну морфологію. Лазерне індуковане глибоке травлення, яке призводить до невеликої шорсткості поверхні, є найбільш вивченим методом на даний момент. Як показано на малюнку 1, навколо звичайного лазерного свердління є очевидні тріщини, тоді як навколишні та бічні стінки глибокого травлення, викликаного лазером, чисті та гладкі.
Процес обробкиTGVЗагальна схема полягає в тому, щоб спочатку просвердлити отвори на скляній підкладці, а потім нанести бар’єрний шар і затравковий шар на бічні стінки та поверхню. Бар'єрний шар запобігає дифузії Cu до скляної підкладки, збільшуючи при цьому адгезію обох, звичайно, у деяких дослідженнях також виявлено, що бар'єрний шар не є необхідним. Потім Cu осаджують шляхом гальванічного покриття, потім відпалюють, і шар Cu видаляють CMP. Нарешті, шар повторного монтажу RDL готується за допомогою літографії PVD покриття, а шар пасивації формується після видалення клею.
(a) Підготовка пластини, (b) формування TGV, (c) двостороннє гальванічне покриття – осадження міді, (d) відпал та хіміко-механічне полірування CMP, видалення поверхневого мідного шару, (e) PVD покриття та літографія , (f) розміщення шару повторного з’єднання RDL, (g) видалення клею та травлення Cu/Ti, (h) формування шару пасивації.
Підводячи підсумок,скло наскрізне (TGV)перспективи застосування широкі, і поточний внутрішній ринок знаходиться на стадії зростання, від обладнання до дизайну продукту та темпи зростання досліджень і розробок вищі, ніж середні світові
Якщо є порушення, контакт видалити
Час публікації: 16 липня 2024 р